你的位置:首頁(yè) > 產(chǎn)品展示 > 光學(xué)元件 > 反射鏡 >電介質(zhì)涂層
產(chǎn)品詳細(xì)頁(yè)電介質(zhì)涂層
- 產(chǎn)品型號(hào):
- 更新時(shí)間:2023-12-21
- 產(chǎn)品介紹:電介質(zhì)涂層光學(xué)涂層的目的是改變光學(xué)表面的反射率。根據(jù)所使用的材料和物理現(xiàn)象,原則上可以區(qū)分金屬涂層和電介質(zhì)涂層。金屬涂層用于反射器和中性密度濾光片??梢赃_(dá)到的反射率由金屬的特性決定。我們的目錄中介紹了一些光學(xué)應(yīng)用中常見(jiàn)的金屬。
- 廠商性質(zhì):代理商
- 在線留言
產(chǎn)品介紹
品牌 | 其他品牌 | 價(jià)格區(qū)間 | 面議 |
---|---|---|---|
組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子,綜合 |
電介質(zhì)涂層
光學(xué)涂層的目的是改變光學(xué)表面的反射率。根據(jù)所使用的材料和物理現(xiàn)象,原則上可以區(qū)分金屬涂層和電介質(zhì)涂層。金屬涂層用于反射器和中性密度濾光片??梢赃_(dá)到的反射率由金屬的特性決定。我們的目錄中介紹了一些光學(xué)應(yīng)用中常見(jiàn)的金屬。
但是,介電涂層使用光學(xué)干涉來(lái)改變涂層表面的反射率。另一個(gè)主要區(qū)別是用于這種涂層的材料顯示出非常低的吸收率。使用光學(xué)干涉涂層,光學(xué)表面的反射率可以從接近零(抗反射涂層)到接近100%(R> 99.999%的低損耗反射鏡)變化。但是,這些反射率值僅在特定波長(zhǎng)或波長(zhǎng)范圍內(nèi)才能達(dá)到。
有關(guān)光學(xué)干涉涂層物理的更詳細(xì)的解釋,請(qǐng)參閱我們的目錄和第22頁(yè)上引用的文獻(xiàn)!
基本
單個(gè)介電層對(duì)表面反射率的影響如圖1所示。入射光束(a)在空氣層界面處分為透射光束(b)和反射光束(c)。透射光束(b)再次被分成反射光束(d)和透射光束(e)。反射光束(c)和(d)可能會(huì)干涉。
圖1:解釋高折射率材料(左)和低折射率材料(右)的四分之一波層的干涉效應(yīng)的示意圖
P
W.之后 Baumeister“光學(xué)鍍膜技術(shù)”,SPIE新聞專著,PM 137,華盛頓,2004年
在圖1中,波長(zhǎng)由反射光束的陰影表示。“光到光”或“黑到黑”的距離是波長(zhǎng)。取決于反射光束之間的相位差,可能會(huì)發(fā)生相長(zhǎng)或相消干涉。
兩種介質(zhì)之間的界面的反射率取決于介質(zhì)的折射率,入射角和光的偏振。通常,它由菲涅耳方程描述。
光束(c)和(d)之間的相位差由該層的光學(xué)厚度n·t(折射率n和幾何厚度t的乘積)給出。此外,必須考慮到,如果來(lái)自低折射率介質(zhì)的光在界面處被反射到高折射率介質(zhì),則發(fā)生π的相跳,即半波。
防反射涂層
單個(gè)低折射率層可以用作簡(jiǎn)單的增透膜。為此目的常用的材料是在VIS和NIR中折射率n = 1.38的氟化鎂。這種材料將熔融石英的單位表面反射率降低到R?1.8%,將藍(lán)寶石降低到幾乎為零。
可以為所有基板材料設(shè)計(jì)由2至3層組成的單波長(zhǎng)增透膜,以將給定波長(zhǎng)的反射率降低到幾乎為零。這些涂層特別用于激光物理學(xué)。也可以使用幾種波長(zhǎng)或?qū)挷ㄩL(zhǎng)范圍的增透膜,并由4至10層組成。
圖2:?jiǎn)尾ㄩL(zhǎng)AR涂層(“V涂層”)(a)和寬帶AR涂層(b)的示意性反射光譜
鏡子和部分反射鏡
常見(jiàn)的反射鏡設(shè)計(jì)是所謂的四分之一波長(zhǎng)堆疊,即,對(duì)于所需的波長(zhǎng),具有相等的光學(xué)厚度n·t =λ/ 4的高低折射率交替層的堆疊。這導(dǎo)致在層之間的每個(gè)界面處產(chǎn)生的反射光束的相長(zhǎng)干涉。對(duì)于給定數(shù)量的層對(duì),反射帶的光譜寬度和可獲得的反射率取決于層材料的折射率之比。較高的折射率比導(dǎo)致較寬的反射帶,而使用較低折射率比的材料可以產(chǎn)生較窄的反射帶。
圖3:四分之一波疊層的示意圖,由具有相同折射率的高折射率材料(灰色陰影)和低折射率材料(無(wú)陰影)的層組成(在[1]之后)(a),四分之一波堆棧的反射光譜由 15對(duì)Ta2O5 / SiO2和TiO2 / SiO2(b)
[1P.W. Baumeister“光學(xué)鍍膜技術(shù)”,SPIE新聞專著,PM 137,華盛頓,2004年
為了可視化不同折射率比率的影響,圖3b比較了由15對(duì)Ta2O5 / SiO2和TiO2 / SiO2組成的四分之一波長(zhǎng)堆棧在800nm處的反射光譜(n1 / n2 = 2.1 / 1.46和2.35 / 1.46)。
假設(shè)理想的涂層吸收和散射損耗為零,則隨著層對(duì)數(shù)量的增加,理論反射率將接近R = 100%。也可以僅使用少量的層對(duì)來(lái)制造具有在R = 0%和R = 100%之間的幾個(gè)離散反射率值的部分反射器(請(qǐng)參見(jiàn)圖4)。將一些非四分之一波長(zhǎng)層添加到此類堆??梢詫⒎瓷渎蕛?yōu)化到任何所需的值。
圖4:800nm處由1、2、3、5、10和15層Ta2O5 / SiO2對(duì)構(gòu)成的四分之一波堆疊的反射率
圖4還顯示,層對(duì)數(shù)量的增加導(dǎo)致反射率帶的邊緣變陡。這對(duì)于邊緣濾鏡(即具有平滑邊帶的反射鏡)尤其重要。陡峭的邊緣需要大量的層對(duì),這又導(dǎo)致很高的反射率。*的反射率值需要非常低的光學(xué)損耗。這可以通過(guò)使用濺射技術(shù)來(lái)實(shí)現(xiàn)。
- 上一篇:二極管激光器的組件